Гром победы раздавайся
https://t.me/wod_1958/35893
Очередное свидетельство того, как санкции и попытка технологической изоляции пошли на пользу России.
Очередное свидетельство того, как санкции и попытка технологической изоляции пошли на пользу России.
Зеленоградский нанотехнологический центр завершил испытания первого российского фотолитографа с разрешением 350 нанометров. Это — серьезный шаг к возрождению собственной литографической отрасли, критически важной для микроэлектроники.
Разрешение в 350 нм соответствует технологическому уровню конца 1980-х — начала 1990-х годов. Именно на этом уровне производились процессоры Intel Pentium первого поколения и многие промышленные микросхемы. Сегодня такие технологии используются в энергетике, автомобилестроении, военной технике и системах управления, где критичны надёжность и локальное производство, а не минимальный размер транзистора.
Несмотря на серьёзное отставание от западных EUV-технологий на 3–5 нм, Россия упорно идет к восстановлению суверенного производства собственной микроэлектроники. Впервые установка использует твердотельный лазер вместо ртутных ламп, а рабочее поле увеличено до 22×22 мм.
Следующий шаг — фотолитограф на 130 нм, запланированный к запуску в 2026 году. Это уже уровень массовой электроники начала 2000-х. В условиях санкций и технологической изоляции — движение пусть и медленное, но в правильную сторону.
По крайней мере, теперь у России появилась возможность закрывать ключевые потребности в промышленной и военной микроэлектронике собственными силами. Чипы с аналогичными техпроцессами — на уровне 250–350 нм — до сих пор широко применяются в США в оборонной, аэрокосмической и промышленной сфере, где приоритет отдают надёжности, стойкости к радиации и предсказуемости поведения микросхем, а не их размеру.
Нет сомнений, что России нужно продолжать развиваться на этом пути. Не стыдно признать отставание, стыдно, осознав его, ничего с этим не делать. Политика технологического суверенитета, провозглашенная Путиным, дает свои плоды и уже существенно сократила отставание России от мировых держав.
.............................
С учетом того, что где-то в 2016-18 гг отвергли китайские технологии в 60-90 нм, то прорыв грандиозный. Но практика показывает. Начинаем шустро, потом что-то щелкает, прогресс останавливается. 350 нм это не прогресс, а достижение советской электроники. У китайцев прогресс. Причем тот же Тайвань закупает литографическое оборудование в Европе, усовершенствует, производит чипы 3-5 нм. Европа берет собственное оборудование, не знает, что с ним делать дальше, борется за создание чипов в 25 нм. В промежутке между малоэффективными потугами Европа рассуждает, что она креативна, а китайцы не креативны.
Когда у нас превзойдут уровень, запланированный на 1992 год, но не достигнутый из-за реформ Гайдара, а это порядка 50 нм, я скажу ух и поблагодарю китайцев за помощь.
.............................
С учетом того, что где-то в 2016-18 гг отвергли китайские технологии в 60-90 нм, то прорыв грандиозный. Но практика показывает. Начинаем шустро, потом что-то щелкает, прогресс останавливается. 350 нм это не прогресс, а достижение советской электроники. У китайцев прогресс. Причем тот же Тайвань закупает литографическое оборудование в Европе, усовершенствует, производит чипы 3-5 нм. Европа берет собственное оборудование, не знает, что с ним делать дальше, борется за создание чипов в 25 нм. В промежутке между малоэффективными потугами Европа рассуждает, что она креативна, а китайцы не креативны.
Когда у нас превзойдут уровень, запланированный на 1992 год, но не достигнутый из-за реформ Гайдара, а это порядка 50 нм, я скажу ух и поблагодарю китайцев за помощь.
